Công nghệ CVD Công nghệ tạo lớp phủ từ pha khí hay gọi CVD (Chamical Vapour Diposition) đực áp dụng nhiều lĩnh vực để tạo lớp phủ kim loại ceramic lên nhiều chi tiết vật liệu khác nhau.Trong số áp dụng quan trọng công nghệ CVD phải kể đến lớp phủ chịu mài mòn:TiC,TiN, ….các lớp phủ chống ăn mòn:Cr,Al,… lớp phủ dung cho ngành điện tử :SiO2,Si3N4,… Phương pháp bay lắng đọng hóa học (CVD) tạo lớp màng mỏng nhờ liên kết dạng khuếch tán, kết phản ứng pha khí với bề mặt nung nóng Sản phẩm cuối tạo lớp màng phủ cứng chịu mài mòn có liên kết mạnh với vật liệu CVD nhiều cúng gọi phương pháp phủ nóng, trình thực nhiệt độ 19000F Nguyên lý CVD: Để tạo lớp phảu công nghệ CVD,nguyên tố cần phủ đực chuyển thành lớp chất thể khí ,được hoàn nguyên trở lại nhớ tác động vật lý,hóa học xaayr vùng lân cận bề mặt chi tiết cần phủ nhờ lớp phủ hình thành