Bằng phƣơng pháp chụp ảnh bề mặt trên kính hiển vi điện tử quét (FE-SEM) đã xác định chiều dày của màng. Màng mỏng VO2 cấu trúc nanô ngay sau khi bốc bay là 180 nm, sau khi màng đƣợc ủ tại nhiệt độ 450oC trong 2 giờ dƣới áp suất ôxy thấp, chiều dày của màng tăng lên cỡ 200 nm. Điều này chứng tỏ khi ủ trong màng đã xảy ra hai quá trình là ôxy hoá và tái kết tinh. Màng VO2 trở nên xốp hơn. Đặc biệt là với quá trình ủ thích hợp đã nhận đƣợc màng có cấu trúc hạt kích thƣớc khoảng 100 nm (hình 3.3).
Kết hợp với phƣơng pháp phân tích nhiễu xạ tia X, phƣơng pháp nhiễu xạ điện tử và hiển vi điện tử truyền qua đã đƣợc sử dụng để quan sát quá trình hình thành cấu trúc tinh thể VO2. Nhiễu xạ điện tử cũng cho thấy, đối với mẫu trƣớc khi ủ, ảnh nhiễu xạ điện tử có dạng vành khuyên thể hiện cấu trúc vô định hình giàu kim loại vanađi và sau khi ủ có vết nhiễu xạ biểu hiện cho cấu trúc tinh thể.
a. b.
Hình 3.3. Ảnh FE- SEM chụp bề mặt của màng mỏng VO2 cấu trúc nanô chế tạo bằng bốc bay nhiệt (a) và chùm tia điện tử (b)
Ảnh hiển vi điện tử quét (FE-SEM) cho thấy, màng VO2 cấu trúc nanô với kích thƣớc hạt trung bình 100 nm. Từ giản đồ nhiễu xạ tia X ghi trên máy SIMENS-5000 và 5005 cũng cho kết quả tƣơng tự. Đối với màng chƣa ủ thì chƣa có đỉnh nhiễu xạ (cấu trúc vô định hình), sau khi ủ màng có các đỉnh phù hợp với cấu trúc VO2. Hơn nữa, áp dụng công thức (2.8) để tính kích thƣớc hạt tinh thể cũng nhƣ đo trực tiếp trên FE-SEM đã cho kết quả phù hợp.