- Một số chất được dùng để loại CO2 có lợi hơn, Một số khác để loại H 2S,
•Hòa tan của DMPEG:
C2H6< CO2< C3H8< C4H10< COS< C5H12< <H2S < CH3SH < CS2 < C7H16 < H2O. H2O.
⇒ DMEPEG hòa tan tốt khí chua và H/C ⇒ hạn chế ứng dụng (chỉ được ứng dụng để làm sạch khí khô). được ứng dụng để làm sạch khí khô).
•DMEPEG có độ lựa chọn cao và làm sạch lựa chọn H2S trong môi trường có CO2 ⇒ làm sạch hai bước: trường có CO2 ⇒ làm sạch hai bước:
+ Bước I: Nguyên liệu [H2S] cao cho sản xuất lưu huỳnh +Bước II: nguyên liệu sản xuất CO2 thương phẩm. +Bước II: nguyên liệu sản xuất CO2 thương phẩm.
30
Hình IV.3. Sơ đồ công nghệ quá trình Selexol.
1-Tháp hấp thụ; 2- tháp hoàn nguyên giai đoạn I; 3- tháp hoàn nguyên giai đoạn II; 4- trao đổi nhiệt; 5- nung nóng bằng hơi nước; 6, 7- máy nén khí.
I- Khí nguyên liệu; II- khí sạch; III- chất hấp thụ bão hòa; IV- chất hấp thụ hoàn nguyên một phần; V- hơi nước; VI- chất hấp thụ hoàn nguyên; VII- khí chua và các khí khác cho sản xuất lưu huỳnh; VIII- khí hoàn
31
CHƯƠNG 4. LÀM SẠCH KHÍ
•+ Hiệu quả tăng khi P và hàm lượng [H2S] và [CO2] tăng
( ở 15,6oC và 6,9 MPa độ hòa tan của H2S cao gấp 9,6 lần CO2).
•+ Selexol có tính mềm dẻo cao: [khí chua] thay đổi trong khoảng rộng
•+ Chi phí chất hấp thụ: 1m3 /1000m3 khí.
•+ Chế độ hấp thụ: T = 10 ÷ 15oC, P = 6,8-7 MPa.
+ Hoàn nguyên: giảm từng bước áp suất trong hệ.
- Khi làm sạch tinh khí: (CO2 < 0,5%): giảm P + gia nhiệt, khí thổi. - Năng lượng tiết lưu sử dụng cho máy bơm và máy nén khí. - Năng lượng tiết lưu sử dụng cho máy bơm và máy nén khí.
•+ Chi phí sản xuất và đầu tư thấp hơn MEA:
+ Chi phí sản xuất giảm 30%, + Đầu tư giảm 70%. + Đầu tư giảm 70%.
32
Nhiệt độ sôi, oC 275
Độ nhớt ở 20oC, Pa.giây 1,87
Nhiệt độ nóng chảy, oC 24
Áp suất hơi bão hòa ở 40oC, Pa 133,3
Tỷ trọng ở 20oC, kg/m3 1000
Nhiệt dung ở 20oC, kJ/(kg.K) 1,67
Phân tử lượng 99
+ NMP không độc,
+ Hòa tan tốt H2S, CO2, RSH và H/C,
+ Hấp thu nước không tạo hỗn hợp ăn mòn, + Bền hóa học,
+ Dễ phân hủy (adsbygoogle = window.adsbygoogle || []).push({});
+ Tạo bọt khi có H/C lỏng
33
CHƯƠNG 4. LÀM SẠCH KHÍ
Hình IV.4. Sơ đồ công nghệ quá trình Purizol.
1- Tháp hấp thụ; 2- máy lạnh; 3, 4, 5 - tháp tách áp suất cao, trung bình và thấp; 6, 7 - trao đổi nhiệt; 8- tháp hoàn nguyên.
I- Khí nguyên liệu; II- khí tuần hoàn có hàm lượïng H2S và CO2 cao; IV- khí sạch ; IV- chất làm lạnh; V- chất hấp thụ bão hòa; VI, VII- khí sau giãn nở dùng làm nhiên liệu; VIV-chất hấp thụ; IX- chất tải nhiệt; X- khí chua và các khí khác; XI - khí thiên nhiên ( nạp thêm vào để tăng cường bay hơi H2S và CO2); XII- chất hấp thụ bão hòa.