22 Đặc điểm POIs trên vết điện năng tiêu thụ của thiết bị mặt nạ

Một phần của tài liệu MỘT SỐ PHƯƠNG PHÁP TẤN CÔNG PHÂN TÍCH ĐIỆNNĂNG TIÊU THỤ HIỆU QUẢ SỬ DỤNG KỸ THUẬT XỬLÝ TÍN HIỆU VÀ HỌC MÁY (Trang 100 - 101)

trong trường hợp này các giá trị lối ra Sbox của thuật toán mật mã luôn được mặt nạ

bởi �

�����(� ⊕ � ����(� ⊕ �) = ) (3 2)

Bản rõ p Khóa k Lối ra Sbox đượcmặt nạ với m

Mặt nạ m

Smbox

Thời điểm thiết bị xử lý mặt nạ

Thời điểm thiết bị xử lý giá trị

được mặt nạ

3 2 2 Đặc điểm POIs trên vết điện năng tiêu thụ của thiết bị mặt nạ

POIs là các điểm trên vết điện năng tiêu thụ thu thập được từ thiết bị tại những thời điểm thiết bị xử lý đối với giá trị trung gian mục tiêu của tấn công Đối với thiết bị không có phòng vệ, giá trị trung gian tấn công của thuật toán mật mã được xử lý dưới dạng rõ và POIs chỉ xuất hiện ở một dải tại vị trí thiết bị xử lý giá trị trung gian này Đối với thiết bị có phòng vệ bằng mặt nạ, việc xử lý giá trị trung gian tấn công tương ứng với việc xử lý mặt nạ và giá trị trung gian được mặt nạ Quá trình thực thi này trên thiết bị sẽ rò rỉ phần điện năng tiêu thụ tương ứng có quan hệ với giá trị mặt nạ và giá trị được mặt nạ được như mô tả trên Hình 3 2a Do đó, các điểm POIs của thiết bị mặt nạ xuất hiện trên vết ở các vị trí thiết bị xử lý với mặt nạ và giá trị được mặt nạ như được mô tả trên Hình 3 2b Các POIs thường xuất hiện thành từng dải và tách biệt nhau bởi khoảng thời gian mà thiết bị có thể xử lý các giá trị trung gian khác

Bản rõ p Khóa k Lối ra Sbox được mặt nạvới m

Mặt nạ m

Smbox

Độ lớn

Độ lớn

a, Vết điện năng tiêu thụ mẫu

Dải POIs Dải POIs

b, POIs đối với thiết bị có sử dụng m ặt nạ bậc nhất mẫu

Hình 3 2 POIs của thiết bị mặt nạ

Một phần của tài liệu MỘT SỐ PHƯƠNG PHÁP TẤN CÔNG PHÂN TÍCH ĐIỆNNĂNG TIÊU THỤ HIỆU QUẢ SỬ DỤNG KỸ THUẬT XỬLÝ TÍN HIỆU VÀ HỌC MÁY (Trang 100 - 101)