Ảnh hưởng của khe hở phóng điện δ

Một phần của tài liệu Nghiên cứu ảnh hưởng của một số yếu tố công nghệ tới năng suất và độ nhám bề mặt khi gia công bằng xung điện (Trang 39 - 42)

VI. Ý NGHĨA KHOA HỌC VÀ Ý NGHĨA THỰC TIỄN CỦA ĐỀ TÀI

2.3.2.8. Ảnh hưởng của khe hở phóng điện δ

Hình 2.12 - Ảnh hưởng của δ

Điện áp phóng tia lửa điện Ue được xác định theo biểu thức sau:

Ue = Ui.(1- e

-T1 RC

)

Trong đó: + T1 là thời gian tích điện của tụ điện (s) + Ui là điện áp đánh lửa.

- Nếu δ nhỏ thì Ue max

cũng nhỏ thì tần số xung lớn, bởi vì ta có quan hệ:

f = 1 RC =

I UeC

Như vậy, δ nhỏ dẫn đến Ue giảm và te giảm, cho dù Ie có lớn thì năng lượng tích luỹ trong xung điện We (năng lượng tách vật liệu) vẫn nhỏ.

Ta có được quan hệ sau:

We = Ue.Ie.te

Chính vì điều này dẫn đến năng suất bị thấp. - Nếu δ lớn thì Ue

max

lớn dẫn đến f nhỏ. Nhưng theo đồ thị dưới đâythì dòng điện Ie

cũng nhỏ làm cho năng suất cũng thấp. Như vậy, việc chọn δ tối ưu sao cho sự phóng tia lửa điện diễn ra đều đặn để có một năng suất gia công phù hợp là rất cần thiết.

Công suất gia công được xác định bằng công thức sau :

Nc = 1 T1   0 T1 Ue.It.dt Trong đó : Ue = Ui(1- e -T1 RC ) It = Iz.e -T1 RC ( Iz = Ui R)

Với: R là điện trở trong mạch RC. C là điện dung trong mạch RC. T1 là thời gian tích điện.

Đặt η = Ue max Ue = 1- e -T1 RC

(η được gọi là hệ số tích điện)

Như vậy, thay số vào và sau khi tính toán tích phân ta được :

Nc = Ui.Iz. η 2 2ln( 1 1-η) Đặt ap = η 2 2ln( 1 1-η) (ap là hệ số công suất) Vậy Nc = Ui.Iz.ap

Hình 2.13 - Đồ thị mối quan hệ giữa η và ap

Qua đồ thị cho ta thấy ap đạt giá trị max khi η = 0,6 - 0,8. Vì vậy phải điều chỉnh khoảng cách điện cực phù hợp với trị số η trên nhưng cũng phải giữ được δ ổn định trong khoảng đó.

Một phần của tài liệu Nghiên cứu ảnh hưởng của một số yếu tố công nghệ tới năng suất và độ nhám bề mặt khi gia công bằng xung điện (Trang 39 - 42)

Tải bản đầy đủ (PDF)

(99 trang)