7. Bố cục của luận án
3.3 Kết luận chương 3
Nội dung chương 3 đã trình bày được các kết quả nghiên cứu liên quan đến việc:
- Xác định chính xác bộ tiết diện va chạm electron của phân tử khí TRIES.Đồng thời, các bộ tiết diện va chạm của các electron khi xảy ra phóng điện trong các phân tử khí O2 và nguyên tử khí Ar, Kr, Xe, He và Ne đã được tác giả chủ động nghiên cứu tổng hợp và kiểm chứng tính chính xác của các bộ tiết diện thông qua tính toán và so sánh các hệ số chuyển động của electron trong từng phân tử nguyên tử/nguyên tử khí nguyên chất với kết quả trong thực nghiệm. Các kết quả nghiên cứu liên quan đã được công bố ở các bài báo số [5] và [6] trong danh mục công trình khoa học đã được công bố của nghiên cứu sinh (công bố thuộc tạp chí nằm trong danh mục WoS (ISI/SCI)).
- Trên cơ sở của phương trình xấp xỉ bậc hai Boltzmann, luận ánđã thực hiện tính toán các hệ số chuyển động electron trong hỗn hợp khí của khí TRIES với các chất khí khác (O2, Ar, Kr, Xe, He và Ne). Các hệ số chuyển động electron bao gồm: vận tốc va chạm của các electron, hệ số chuyển động ngang và dọc của các electron, hệ số ion hóa và hệ số kết hợp. Các kết quả này nhằm cung cấp dữ liệu, hỗ trợ việc xem xét khả năng ứng dụng của phân tử khí TRIES cũng như hỗn hợp của chất khí TRIES với các chất khí khác trong công nghệ chế tạo vi mạch. Những kết quả này là nguồn tài liệu tham khảo quan trọng trong việc sử dụng quá trình plasma trong công nghệ chế tạo vi mạch.
KẾT LUẬN VÀ HƯỚNG NGHIÊN CỨU TIẾP THEO 1.Những kết quả chính đã đạt được của luận án
- Luận án đã nghiên cứu cơ bản tổng quan về các quá trình xảy ra trong plasma cụ thể là các quá trình va chạm của nguyên tử, phân tử với electron trong plasma để xác định các bộ tiết diện va chạm và các tham số vật lý liên quan đến quá trình va chạm.
- Bằng việc sử dụng phương trình xấp xỉ bậc hai Boltzmann và phương pháp Monte-Carlo, luận án đã xác định bộ tiết diện va chạm electron thích hợp của phân tử khí dạng hợp chất hữu cơ TRIES khi xảy ra phóng điện để định hướng ứng dụng tạo nguồn plasma trong công nghệ chế tạo vi mạch. Việc áp dụng thuật toán cùng các kết quả nghiên cứu liên quan đã được công bố ở các bài báo số [1], [2], [4], [5] và [6] trong danh mục công trình khoa học đã được công bố của nghiên cứu sinh.
- Luận án đã xác định được các thuộc tính plasma ion hóa yếu trong va chạm electron của chất khí TRIES và hỗn hợp của chất khí TRIES với các chất khí khác (TRIES - O2, TRIES - Ar, TRIES - Kr, TRIES - Xe, TRIES - He và TRIES - Ne), cụ thể là các hệ số chuyển động electron: vận tốc va chạm của các electron, hệ số chuyển động ngang và dọc của các electron, hệ số ion hóa và hệ số kết hợp nhằm xem xét khả năng ứng dụng của phân tử khí TRIES cũng như hỗn hợp của chất khí TRIES với các chất khí khác trong công nghệ chế tạo vi mạch. Các kết quả đã được công bố ở bài báo số [3], [5] và [7] trong danh mục công trình khoa học đã được công bố của nghiên cứu sinh.