Để nghiên cứu sự ảnh hưởng của độ phẩm chất buồng cộng hưởng hay hệ số phản xạ của gương laser ra lên động học phát xạ laser Ce:LLF và laser Ce:LiCAF chúng tôi giữa nguyên các thông số khác của BCH như hệ số phản xạ của gương cuối R1 = 100%; chiều dài BCH L= 2cm; Năng lượng của laser bơm Eb = 20mJ cho cả hai môi trường laser. Với việc thay đổi hệ số phản xạ gương ra R2 từ 5% đến 70% các kết
quả mô phỏng được trình bày trên Hình 2.9 cho laser Ce:LLF và Hình 2.10 cho laser Ce:LiCAF.
Các kết quả chỉ ra r
đổi hệ số phản xạ của gương ra, th được mở rộng cũng như đ
hơn trong một xung bơm) khi tăng h Để quan sát về phổ
cường độ laser trên toàn b phân khi thay đổi hệ số ph
laser Ce:LLF và Hình 2.12 a và Hình 2.12b v Kết quả cho thấy, vi
tăng độ phẩm chất của BCH khi tăng lên.
Hình 2.9. Tiến trình ph ứng v
Kết quả này có thể mát trong BCH là lớn, do v công tua khuếch đại có kh
c trình bày trên Hình 2.9 cho laser Ce:LLF và Hình 2.10 cho laser
ra rằng, với cả hai phát xạ laser Ce:LLF và Ce:LiCAF khi thay a gương ra, thì tiến trình phổ-thời gian cũng thay đ
ư độ rộng của xung laser lối ra tăng lên (thờ t xung bơm) khi tăng hệ số phản xạ gương.
ổ laser khi thay đổi hệ số phản xạ gương, tôi l laser trên toàn bộ vùng bước sóng theo thời gian. Kết qu
phản xạ gương được chỉ ra trên Hình 2.11a và Hình 2.11b v laser Ce:LLF và Hình 2.12 a và Hình 2.12b với laser Ce:LiCAF.
y, việc tăng hệ số phản xạ gương ra R2cũng đ a BCH khiến cường độ cũng như độ rộng c
n trình phổ - thời gian của phát xạ laser UV Ce:LLF ng với các hệ số phản xạ gương ra khác nhau.
ể được giải thích như sau: khi hệ số phản x n, do vậy chỉ có vùng bước sóng xung quanh đ i có khả năng phát laser.
c trình bày trên Hình 2.9 cho laser Ce:LLF và Hình 2.10 cho laser
laser Ce:LLF và Ce:LiCAF khi thay ũng thay đổi. Phổ laser ời gian phát laser lâu
gương, tôi lấy tích phân t quả về phổ laser tích ra trên Hình 2.11a và Hình 2.11b với
ũng đồng nghĩa với việc ng của phổ laser lối ra
laser UV Ce:LLF gương ra khác nhau.
n xạ gương thấp, mất c sóng xung quanh đỉnh cực đại của
Hình 2.10. Ti ứng v
Khi tăng hệ số phả BCH nên mất mát do gương s vùng phát xạ của laser, do đó phạt xạ của laser được m Ce:LiCAF đỉnh phổ laser g
Để quan sát phát xạ
phản xạ của gương ra BCH khác nhau tôi l
sóng. Kết quả được trình bày trên Hình 2.13 cho laser Ce:LLF và Hình 2.14 cho Ce:LiCAF.
Hình 2.11.Ph
. Tiến trình phổ - thời gian của phát xạ laser UV Ce:LiCAF ng với các hệ số phản xạ gương ra khác nhau.
ản xạ gương ra cũng có nghĩa là làm tăng đ t mát do gương sẽ giảm. Điều này dẫn đến tăng độ
, do đó công tua khuếch đại của laser được m
c mở rộng. Ta thấy rằng, với cả hai laser Ce:LLF và laser laser gần như không thay đổi khi tăng hệ số ph
ạ laser Ce:LLF và Ce:LiCAF theo thời gian
a gương ra BCH khác nhau tôi lấy tích phân cường độ laser theo t c trình bày trên Hình 2.13 cho laser Ce:LLF và Hình 2.14 cho
Phổ laser tích phân của laser Ce:LLF với h gương ra của BCH khác nhau.
laser UV Ce:LiCAF gương ra khác nhau.
à làm tăng độ phẩm chất của khuếch đại cho toàn c mở rộng dẫn đến phổ hai laser Ce:LLF và laser
phản xạ gương ra. i gian ứng với các hệ số
laser theo tất cả bước c trình bày trên Hình 2.13 cho laser Ce:LLF và Hình 2.14 cho laser
Hình 2.12.
hệ số
Hình 2.13. Sự theo thời gian ứ
Kết quả cho thấy, khi h phát một dao động còn v số phản xạ gương ra thì th và số dao động cũng tăng l xung bơm. Điều này đượ trong BCH là lớn, dẫn đế trường hợp BCH có hệ số
Hình 2.12. Phổ laser tích phân của laser Ce:LiCAF v ố phản xạ gương ra của BCH khác nhau.
phụ thuộc của cường độ laser Ce:LLF và đ
ứng với hệ số phản xạ của gương ra BCH khác nhau.
y, khi hệ số phản xạ gương ra là 5% thì v ng còn với laser Ce:LiCAF đã bắt đầu phát hai dao đ
ì thời gian phát laser cũng sớm hơn trong m
ũng tăng lên. Nếu hệ số phản xạ của gương ra cao xung laser s ợc giải thích như sau: khi hệ số phản xạ gương ra nh
ến ngưỡng phát laser cao, do đó laser sẽ phát mu ố phản xạ gương ra cao.
a laser Ce:LiCAF với
laser Ce:LLF và độ tích lũy N1 a gương ra BCH khác nhau.
ì với laser Ce:LLF chỉ u phát hai dao động. Khi tăng hệ m hơn trong một xung laser bơm a gương ra cao xung laser sẽ lặp lại gương ra nhỏ, mất mát phát muộn hơn so với
Hình 2.14. Sự phụ thuộc của cường độ laser Ce:LiCAF và độ tích lũy N1 theo thời gian ứng với hệ số phản xạ của gương ra BCH khác nhau.
Hơn nữa, do sự mất mát lớn này mà laser chỉ phát được một vài dao động sau một xung laser bơm. Khi gương ra có hệ số phản xạ cao thì mất mát trong BCH là nhỏ, do đó sau quá trình laser đầu tiên, sự tái tích lũy trên ngưỡng vẫn đạt được nên laser có thể phát ra vài dao động.
Từ kết quả nghiên cứu này ta cũng có thể thấy ngưỡng phát của laser Ce:LiCAF nhỏ hơn so với laser Ce:LLF. Với cùng chiều dài BCH, cùng năng lượng của laser bơm thì để thu được đơn xung với laser Ce:LiCAF cần BCH có độ phẩm chất thấp hơn so với BCH của laser Ce:LLF.