Lý thuyết của Pospisil Sehyl

Một phần của tài liệu Tập bài giảng Hàn đắp và phun phủ (Trang 31 - 32)

Tác giả của lý thuyết này đã kết luận rằng: lớp phủ bằng phun kim loại đã xuất hiện do các giọt kim loại lỏng bị phun bằng một dòng khí nén với tốc độ rất cao (trung bình khoảng 200 m/s). Các giọt này bị phá vỡ thành rất nhiều hạt nhỏ. Dạng của các hạt này được đặc trưngbằng kim loại của nó. Theo bản chất có thể chia kim loại thành 2 nhóm.

Các kim loại mà ôxyt của nó khi phun ở thể lỏng thì luôn luôn tạo thành các hạt có dạng hình cầu.

Các kim loại mà ôxyt của nó khi phun ở thể rắn (như nhôm, kẽm) sẽ tạo thành những hạt có dạng không đồng đều (đa cạnh).

Dạng của các hạt khi bay hoàn toàn không thay đổi mà chủ yếu chỉ bị oxy hoá. Sự oxi hoá kim loại thực chất bắt đầu xảy ra từ quá trình làm chảy dây phun và trong thời điểm tạo ra các hạt nhỏ một phần lớn các oxyt sinh ra trong quá trình bay của các hạt. Nghĩa là khi các giọt kim loại lỏng bắt đầu tách thành các hạt nhỏ thì bề mặt của các hạt cũng bắt đầu tăng lớp oxyt. Số lượng oxyt nhiều, ít là một nhân tố chính ảnh hưởng đến chất lượng của lớp phủ.

Quá trình vađập của các hạt, thực nghiệm rất khó xác định vì quá trình này xảy ra trong một thời gian rất ngắn, mà trong thời gian đó quá trình này cóảnh hưởng rất lớn tới độ bám của các phần tử với kim loại nền.

Từ các thực nghiệm tác giả lý thuyết này tính toán và kết luận r ằng: các phần tử kim loại trong thời điểm va đập trên bề mặt phun làở thể lỏng.

Việc bố trí các thiết bị, máy móc dụng cụ trong phân xưởng phun phải đảm bảo cho công việc phun kim loại được tiến hành thuận tiện, năng suất cao và an toàn, không gây ô nhiễm môi trường.

Nói chung phân xưởng phun kim loại nên độc lập để tránh ảnh hưởng độc hại, bụi và tiếng ồn do các chi thiết bị làm việc gây ra.

Mặt bằng phân xưởng phun kim loại nên độc lập để tránh ảnh hưởng độc hại, bụi và tiếng ồn do các thiết bị làm việc gây ra.

Mặt bằng của phân xưởng phun kim loại cần đạt các yêu cầu sau: - Diện tích mặt bằng tối thiểu từ 60-100 m2.

- Các bình chứa khí, lọc khí cần phải đặt nơi hợp lý thuận tiện, dễ thao tác và theo dõi,đảm bảo an toàn về chống nổ, cháy.

- Khu vực phun kim loại cần thoáng khí.

- Tổng hợp trang thiết bị cho phân xưởng phun kim loại cho ở bảng 1.6.

Một phần của tài liệu Tập bài giảng Hàn đắp và phun phủ (Trang 31 - 32)