M Ở ĐẦU
1.2.3.Phân bố góc của ti aX
Bia mỏng: Nếu một tia của electron năng lượng thấp tới trên bia rất mỏng, khi
đó tia X phân bố theo hướng vuông góc với hướng chuyển động của electron tới. Ví dụ nhưđường cong A của Hình 1.16b, tia X được tạo ra khi bắn chùm electron 34 keV vào lá nhôm 200nm (thí nghiệm của Honerjager). Sự phân bố góc này cho bức xạở giới hạn năng lượng cao. Độ dài của mũi tên chỉ từ bia chỉ ra cường độ tương
đối trong các hướng khác nhau. Sự phân bố trong không gian được tìm thấy bằng cách xoay đường cong quanh trục của chùm electron. Hình1.16b cho thấy cường độ
về phía trước nhỏ. Khi năng lượng electron tới tăng, cường độ càng phân bố dần về
phía trước nhưđường cong B và C (đường cong lý thuyết được tính bởi Schiff) cho phân bố góc của bức xạ được tạo bởi việc bắn bia tungsten mỏng với bề dày 0,05 cm với electron 10 và 20 MeV. Sự phân bố này phù hợp với một số kết quả thí nghiệm sử dụng betatron.[3]
Hình 1.16. Phân bố cường độ tia X theo góc tạo bởi electron tới bắn vào các bia khác nhau. Đường cong A, electron 34 keV bắn phá vào lá nhôm mỏng do Honerjager thực hiện. Đường cong B và C, electron 10 và 20 MeV bắn phá vào tungsten mỏng 0,05 cm là tính toán của Schiff. Đường cong D chỉ ra sự phân bố điển hình cho ống tia X chuẩn đoán với bia tungsten dày 16o, tia được lấy theo hướng vuông góc với chùm electron và được sử dụng ở 90 kVp [3].
Bia dày: Sự phân bố của hình 1.16b cho bia quá mỏng mà hầu hết electron tốc
độ cao xuyên qua bia mà không tán xạ. Trong ống tia X thực tế (minh họa trong hình 1.16a), bia đủ dày để hãm tia electron. Trong quá trình hãm, electron bị lệch rộng so với hướng ban đầu của nó để tia X được tạo ra theo tất cả các hướng về 0. Tuy nhiên, những tia được tạo ra theo hướng thẳng góc OT sẽ bị hấp thụ trong bia và có sự phân bố cực. Hình 1.16a chỉ ra sự phân bố đối với ống tia X dùng trong chẩn đoán với góc bia 16o. Việc giảm góc bia cho phép sử dụng công suất lớn hơn cho cùng điểm tập trung (focus spot) nhưng sẽ làm giảm vùng có ích của tia. Trong
khoảng 12o đối với mỗi bên của 00’. Với sự giới hạn góc này, cường độ sẽ thay đổi theo góc, khoảng 30% đối với tia có ích, cường độ thấp nhất về phía anode. Cường
độ giảm về phía anode được gọi là hiệu ứng chân (hình 1.17). Tia gần chân, mặc dù cường độ giảm, nhưng xuyên sâu hơn vì sự lọc trong bia [3]. Với cùng một kích cỡ
của trường đưa ra, hiệu ứng chân ít thể hiện rõ ở những khoảng cách giữa nguồn – hình ảnh dài hơn. Ống tia X tốt nhất với cathode được đặt trên bộ phận dày hơn của bệnh nhân để cân bằng với photon tia X được truyền tới bộ phận ghi nhận hình ảnh.
Cấu hình tốt nhất của chùm tia electron, bia, và chùm tia X hữu ích phụ thuộc vào năng lượng. Đối với năng lượng electron lên tới 400 keV, tia X thẳng góc với electron như trong hình 1.16a và trường hợp này được sử dụng trong chẩn đoán X quang. Trong máy gia tốc tuyến tính 4 đến 30 MeV, chùm tia X được truyền xuyên qua bia theo hướng của các electron đến thì hữu ích hơn. Tia này cường độ lớn hơn tia được tạo ra theo hướng thẳng góc (hình 1.16b). Bia được làm bằng tungsten
được gắn với đồng và được làm nguội bằng nước. Đối với năng lượng từ 10 đến 30 MeV, chùm tia có đỉnh hướng về phía trước và cần sử dụng tấm lọc để giảm cường
độ dọc theo trục của chùm tia và đạt được trường bức xạđồng nhất [3].
Chương 2
CHE CHẮN LIỀU TRONG PHÒNG CHẨN ĐOÁN X-QUANG