Luận án tiến sĩ nghiên cứu xác định chế độ công nghệ tối ưu khi gia công xung tia lửa điện bằng điện cực đồng

144 3 0
Luận án tiến sĩ nghiên cứu xác định chế độ công nghệ tối ưu khi gia công xung tia lửa điện bằng điện cực đồng

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

Thông tin tài liệu

BỘ CÔNG THƯƠNG TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHIỆP HÀ NỘI NGUYỄN VĂN ĐỨC NGHIÊN CỨU XÁC ĐỊNH CHẾ ĐỘ CÔNG NGHỆ TỐI ƯU KHI GIA CÔNG XUNG TIA LỬA ĐIỆN BẰNG ĐIỆN CỰC ĐỒNG LUẬN ÁN TIẾN SỸ KỸ THUẬT Hà Nội - 2020 BỘ CÔNG THƯƠNG TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHIỆP HÀ NỘI NGUYỄN VĂN ĐỨC NGHIÊN CỨU XÁC ĐỊNH CHẾ ĐỘ CÔNG NGHỆ TỐI ƯU KHI GIA CÔNG XUNG TIA LỬA ĐIỆN BẰNG ĐIỆN CỰC ĐỒNG CHUYÊN NGÀNH: KỸ THUẬT CƠ KHÍ MÃ SỐ: 9.52.01.03 LUẬN ÁN TIẾN SỸ KỸ THUẬT NGƯỜI HƯỚNG DẪN KHOA HỌC: PGS.TS PHẠM VĂN BỔNG PGS.TS TRẦN XUÂN VIỆT Hà Nội - 2020 i LỜI CẢM ƠN Tôi xin gửi lời cảm ơn chân thành biết ơn sâu sắc tới thầy hướng dẫn khoa học PGS.TS Phạm Văn Bổng PGS.TS Trần Xuân Việt hướng dẫn hỗ trợ tận tình tơi suốt thời gian học tập nghiên cứu Tôi xin trân trọng cảm ơn Đảng ủy, Ban Giám hiệu, Phịng Đào tạo, Khoa Cơ khí và, Bộ môn Công nghệ, Trung tâm Sau Đại học trường Đại học Công nghiệp Hà Nội tạo điều kiện giúp đỡ tơi suốt q trình học tập, nghiên cứu hồn thành Luận án Tơi xin chân thành cảm ơn thầy Trung tâm Đào tạo Kỹ thuật HaUI - Foxconn giúp đỡ hỗ trợ tơi hồn thành thí nghiệm Xin chân thành cảm ơn Viện Khoa học vật liệu, Trung tâm Đánh giá Hư hỏng Vật liệu giúp đỡ đo kiểm mẫu thí nghiệm Tơi xin cám ơn TS Nguyễn Hữu Phấn có góp ý hỗ trợ tơi thời gian làm luận án Tôi xin bày tỏ lịng biết ơn sâu sắc tới gia đình, người bên cạnh tôi, động viên, chia sẻ, giúp đỡ tơi suốt q trình học tập, nghiên cứu để hoàn thành Luận án Hà Nội, năm 2020 Nguyễn Văn Đức ii LỜI CAM ĐOAN Tôi cam đoan nội dung trình bày luận án cơng trình nghiên cứu tơi Ngồi nội dung tham khảo trích dẫn cịn số liệu, kết nêu luận án trung thực chưa cơng bố cơng trình khác Hà Nội, năm 2020 Nguyễn Văn Đức iii MỤC LỤC TRANG LỜI CẢM ƠN i LỜI CAM ĐOAN ii MỤC LỤC iii DANH MỤC CÁC KÝ HIỆU vii DANH MỤC CÁC TỪ VIẾT TẮT viii DANH SÁCH CÁC BẢNG ix DANH SÁCH CÁC HÌNH VẼ VÀ ĐỒ THỊ xi PHẦN MỞ ĐẦU .1 Tính cấp thiết đề tài Nội dung nghiên cứu Phương pháp nghiên cứu Đối tượng nghiên cứu .2 Giới hạn nghiên cứu Mục đích nghiên cứu Ý nghĩa khoa học thực tiễn đề tài a Ý nghĩa khoa học b Ý nghĩa thực tiễn CHƯƠNG 1: TỔNG QUAN VỀ GIA CÔNG TIA LỬA ĐIỆN 1.1 Lịch sử phát triển EDM 1.2 Đặc điểm gia công tia lửa điện .6 1.3 Ứng dụng gia công tia lửa điện 1.4 Một số khái niệm gia công tia lửa điện 1.4.1 Chu kỳ gia công .6 1.4.2 Điện áp cường độ dịng điện gia cơng 1.4.3 Thời gian phóng tia lửa điện Ton 1.4.4 Thời gian ngừng phóng tia lửa điện Toff 1.4.5 Sự ion hóa 1.4.6 Sự trễ ion hóa 1.4.7 Vật liệu điện cực 10 1.4.8 Phoi EDM 11 1.4.9 Loại mạch điện máy xung .12 iv 1.5 Tình hình nghiên cứu nước EDM 13 1.5.1 Tình hình nghiên cứu ngồi nước 13 1.5.2 Tình hình nghiên cứu nước 16 Kết luận chương 18 CHƯƠNG 2: CƠ SỞ LÝ THUYẾT 19 2.1 Cơ sở lý thuyết gia công tia lửa điện 19 2.1.1 Bản chất vật lý q trình phóng tia lửa điện 19 2.1.2 Cơ chế tách vật liệu .22 2.1.3 Đặc tính điện phóng tia lửa điện 23 2.1.4 Lượng hớt vật liệu 25 2.1.5 Lớp trắng sau gia công 26 2.1.6 Mòn điện cực 27 2.1.7 Chất điện môi 29 2.2 Cơ sở lý thuyết tối ưu hóa 29 2.2.1 Khái niệm tối ưu hóa 29 2.2.2 Các dạng tốn tối ưu hóa 30 2.2.2.1 Tối ưu hóa tĩnh 30 2.2.2.2 Tối ưu hóa động 30 2.2.3 Phương pháp tối ưu hóa đơn mục tiêu theo Taguchi .31 2.2.3.1 Tỷ số S/N 31 2.2.3.2 Giá trị hệ số Fisher (F) 31 2.2.3.3 Phân tích phương sai .32 2.2.4 Tối ưu hóa đa mục tiêu AHP - Deng’s 32 2.2.4.1 Phương pháp AHP 32 2.2.4.2 Tối ưu hóa đa mục tiêu phương pháp Deng’s 34 Kết luận chương 37 CHƯƠNG 3: TRANG THIẾT BỊ VÀ THỰC NGHIỆM XÁC ĐỊNH ẢNH HƯỞNG CỦA MỘT SỐ THÔNG SỐ CÔNG NGHỆ ĐẾN CÁC CHỈ TIÊU CHẤT LƯỢNG VÀ ĐỘ MÒN ĐIỆN CỰC 39 3.1 Trang thiết bị phục vụ thực nghiệm .39 3.1.1 Máy Xung điện 39 3.1.2 Vật liệu phơi thí nghiệm 40 3.1.3 Thiết bị đo 41 3.1.3.1 Cân điện tử AJ 203 41 v 3.1.3.2 Máy đo độ nhám 42 3.1.3.3 Máy đo độ cứng tế vi HV .42 3.1.3.4 Kính hiển vi quang học Leica - DM750 43 3.2 Thí nghiệm khảo sát ảnh hưởng thông số công nghệ đến chất lượng 43 3.2.1 Thí nghiệm khảo sát 1: Khảo sát ảnh hưởng thông số công nghệ đến nhám bề mặt chi tiết gia công 43 3.2.2 Thí nghiệm khảo sát 2: Khảo sát ảnh hưởng độ nhám điện cực đến độ nhám bề mặt gia công .50 3.2.3 Thí nghiệm khảo sát 3: Khảo sát ảnh hưởng thơng số cơng nghệ đến suất bóc tách vật liệu .53 3.3 Thiết kế thí nghiệm tối ưu hóa .59 3.3.1 Lựa chọn phương pháp thiết kế thí nghiệm 59 3.3.2 Thiết kế thí nghiệm phương pháp Taguchi 60 3.3.3 Lựa chọn thông số 61 3.3.3.1 Lựa chọn thông số đầu vào .61 3.3.3.2 Các tiêu đánh giá đầu Y 62 3.3.4 Xây dựng quy hoạch thực nghiệm 62 3.4 Tiến hành thí nghiệm 64 3.4.1 Thí nghiệm máy xung .64 3.4.2 Đo kiểm tiêu đầu 65 3.5 Xử lý số liệu thí nghiệm .67 3.5.1 Kiểm tra độ tin cậy số liệu thí nghiệm 67 3.5.2 Đặc trưng tiêu đầu 72 Kết luận chương 72 CHƯƠNG 4: TỐI ƯU HÓA ĐƠN VÀ ĐA MỤC TIÊU XÁC ĐỊNH CHẾ ĐỘ CÔNG NGHỆ XUNG TỐI ƯU 73 4.1 Tối ưu hóa đơn mục tiêu theo phương pháp Taguchi 73 4.1.1 Độ cứng tế vi lớp bề mặt (HV) 73 4.1.1.1 Ảnh hưởng thông số đến HV 73 4.1.1.2 Tối ưu hóa HV 74 4.1.2 Chiều dày lớp trắng (WLT) 76 4.1.2.1 Ảnh hưởng thông số đến WLT 76 4.1.2.2 Tối ưu hóa WLT 77 4.1.3 Nhám bề mặt (Ra) 79 4.1.3.1 Ảnh hưởng thông số đến Ra .79 vi 4.1.3.2 Tối ưu hóa Ra 80 4.1.4 Mòn điện cực (TWR) .82 4.1.4.1 Ảnh hưởng thông số đến TWR 82 4.1.4.2 Tối ưu hóa TWR 84 4.1.5 Năng suất bóc tách vật liệu (MRR) .85 4.1.5.1 Ảnh hưởng thông số đến MRR 85 4.1.5.2 Tối ưu hóa MRR 87 4.2 Ứng dụng tối ưu hóa đa mục tiêu AHP - Deng’s 89 4.2.1 Tối ưu hóa đa mục tiêu AHP - Deng’s 89 4.2.2 Phân tích ANOVA 95 a Phân tích ANOVA 95 b Ảnh hưởng thông số công nghệ đến Pi 97 4.2.3 Tối ưu hóa đa mục tiêu 100 4.2.4 Kết đạt phương pháp tối ưu hóa đa mục tiêu .101 Kết luận chương 101 KẾT LUẬN CHUNG VÀ HƯỚNG NGHIÊN CỨU TIẾP THEO 103 TÀI LIỆU THAM KHẢO 106 CÁC CƠNG TRÌNH KHOA HỌC CÔNG BỐ CỦA TÁC GIẢ 115 PHỤ LỤC 116 vii DANH MỤC CÁC KÝ HIỆU Ký hiệu Ton (te) Toff Wi Wf Ra t  Ti Tf D d d  i 0  hp S Wc g/cm3 V/m V A s HRC HV DF SS F P Ue Ie Pi C* Ý nghĩa Thời gian phát xung (µs) Thời gian ngừng phát xung (µs) Khối lượng phơi ban đầu (mmg) Khối lượng phôi sau gia công (mmg) Nhấp nhô bề mặt gia cơng (µm) Thời gian thực thí nghiệm (phút) Khối lượng riêng phôi (g/cm3) Khối lượng điện cực ban đầu (mmg) Khối lượng điện cực sau gia cơng (mmg) Đường kính lỗ (mm) Đường kính điện cực (mm) Lượng cắt (mm) Độ nhớt dung dịch điện môi (m2/s) Hằng số điện môi dung dịch điện mơi Hằng số điện mơi chân khơng Kích thước khe hở phóng điện (µm) Chiều cao nhấp nhơ (µm) Diện tích bề mặt điện cực (mm2) Năng lượng điện dung (J) Thứ nguyên khối lượng riêng Thứ nguyên cường độ điện trường Thứ nguyên điện áp Thứ nguyên cường độ dòng điện Thứ nguyên thời gian Thang đo độ cứng HRC Thang đo độ cứng HV Bậc tự Tổng bình phương sai lệch Hệ số Fisher Mức ý nghĩa Điện áp phóng tia lửa điện (V) Dịng phóng tia lửa điện (A) Chỉ số hiệu suất tổng thể Chỉ số tối ưu viii DANH MỤC CÁC TỪ VIẾT TẮT Viết tắt EDM MRR TWR RSM ANN GA GRA PSO PSI AHP Deng’s PCA DF S/N XRD EDX SEM ANOVA PVD CVD CNC SR WLT MSD PIS NIS Tiếng Anh Electrical dischagre machining Material removal rate Tool wear rate Response Surface Methodology Artificial Neural Network Genetic Algorithm Grey relational analysis Particle swarm optimization Preference selection index Analytic Hierarchy Process Deng’s similary based method Principal component analysis Degree of freedom Signal to Noise ratio X-Ray diffraction Energy-dispersive X-ray Scanning electron microscopy Analysis of variance Physical Vapor Deposition Chemical Vapor Deposition Computer Numerical Control Suface roughness White layer thickness Medium squared deviation Positive ideal solution Negative ideal solution Tiếng Việt Gia công tia lửa điện Năng suất bóc tách vật liệu Tốc độ mịn điện cực Phương pháp phản hồi bề mặt Mạng nơ ron nhân tạo Giải thuật di truyền Phân tích quan hệ xám Tối ưu hóa bầy đàn Chỉ số lựa chọn ưu tiên Quy trình phân cấp phân tích Phương pháp dựa tương tự Phân tích thành phần Bậc tự Tỷ số tín hiệu/nhiễu Nhiễu xạ nhờ X - Ray Phổ tán xạ lượng tia X Kính hiển vi điện tử Phân tích phương sai Phủ bay vật lý Phủ bay hóa học Điều khiển số máy tính Nhám bề mặt Chiều dày lớp trắng Sai lệch bình phương trung bình Giải pháp lý tưởng tích cực Giải pháp lý tưởng tiêu cực 115 CÁC CƠNG TRÌNH KHOA HỌC CƠNG BỐ CỦA TÁC GIẢ Nguyễn Văn Đức, Phạm Văn Bổng, Phạm Văn Đông, “Nghiên cứu ảnh hưởng độ nhám điện cực đến độ nhám chi tiết gia công gia công tia lửa điện máy xung điện điện cực đồng”, Tạp chí Khoa học Cơng nghệ, trường Đại học Công nghiệp Hà Nội, số 33 - 04/2016 Phan Nguyen Huu, Duc Nguyen Van and Bong Pham Van, “Experimental Investigation of Surface Roughness of SKD11 Die Steel during Die- Sinking EDM Process using Copper Electrode”, Journal of Chemical and Pharmaceutical Research, 2017, 9(10): 59-69, ISSN: 0975-7384 CODEN(USA): JCPRC5 Nguyễn Văn Đức, Phạm Văn Bổng, Nguyễn Hữu Phấn, “Ứng dụng kết hợp Taguchi PSI để tối ưu hóa đa mục tiêu thơng số cơng nghệ xung định hình thép SKD11”, Hội nghị khoa học cơng nghệ tồn quốc khí lần thứ V, ngày 5/10/2018 Phan Nguyen Huu, Duc Nguyen Van and Bong Pham Van, “Application of response surface methodology for evaluating material removal in rate die-sinking EDM roughing using copper electrode”, Science & technology development journalengineering & technology, VOL 1, ISSUE 1, 20-27, 2018 (Tạp chí phát triển Khoa học Công nghệ - Chuyên san Kỹ thuật Công nghệ, Tập 1, Số 1, 2018) Duc Nguyen Van, Bong Pham Van, Phan Nguyen Huu, “Application of Deng’s similarity based –AHP approach in parametric optimization of EDM process for SDK11 die steel”, Transactions of the Canadian Society for Mechanical Engineering, https://doi.org/10.1139/tcsme-2019-0132, (SCIE) Phan Huu Nguyen, Tien Long Banh, Khan Aqib Mashood, Duc Quy Tran, Van Dong Pham, T Muthuramalingam, Van Duc Nguyen, Duc Toan Nguyen, “Application of TGRA-Based Optimisation for Machinability of High-Chromium Tool Steel in the EDM Process”, Arabian Journal for Science https://doi.org/10.1007/s13369-020-04456-z, (SCIE) and Engineering, 116 PHỤ LỤC Bảng P1 Kết đo độ cứng HV lần Nguyễn Văn Đức vi 117 Bảng P2 Kết đo độ cứng HV lần Nguyễn Văn Đức vi 118 Bảng P3 Kết đo độ cứng HV lần Nguyễn Văn Đức vi 119 Bảng P4 Kết đo độ cứng HV trung bình lần Nguyễn Văn Đức 120 Hình P1 Ảnh chụp vết đâm đo độ cứng HV 121 Hình P2 Ảnh chụp bề mặt mẫu 24 (phóng đại 50 lần) Hình P3 Ảnh chụp bề mặt mẫu 24 (phóng đại 100 lần) Hình P4 Ảnh chụp bề mặt mẫu 24 (phóng đại 200 lần) Hình P5 Ảnh chụp bề mặt mẫu 24 (phóng đại 500 lần) 122 Hình P6 Ảnh chụp mẫu đo kim tương (đo chiều dày lớp trắng) Hình P7 Ảnh chụp mẫu đo kim tương (đo chiều dày lớp trắng) Hình P8 Ảnh chụp mẫu đo kim tương (đo chiều dày lớp trắng) 123 Bảng P5 Năng suất bóc tách vật liệu MRR Lần Lần T Khối lượng Khối lượng phôi MRR T phôi (g) (g) (mg/p) Trước Sau Trước Sau 67.924 67.597 1.09 66.131 65.623 68.377 68.098 0.93 69.868 69.529 67.776 67.494 0.94 66.124 65.845 67.36 67.143 0.723 68.858 68.682 68.043 67.816 0.757 67.133 66.935 66.821 64.097 9.08 68.231 65.574 67.444 65.582 6.207 66.874 64.989 68.157 66.675 4.94 69.344 67.712 68.403 67.311 3.64 67.675 66.789 10 67.167 65.271 6.32 66.424 64.369 11 69.004 65.334 12.233 68.113 64.593 12 67.603 66.388 4.05 66.741 65.4545 13 68.301 67.279 3.407 69.134 67.948 14 66.8 62.571 14.097 67.524 63.1915 15 67.475 63.791 12.28 68.045 64.202 16 67.819 65.151 8.893 66.321 63.527 17 67.372 64.618 9.18 69.044 66.211 18 69.037 58.738 34.33 68.845 58.407 19 68.653 59.277 31.253 67.092 57.781 20 67.42 62.659 15.87 66.104 61.106 21 67.526 62.279 17.49 66.705 61.561 22 68.539 56.013 41.753 69.041 56.648 23 67.231 59.587 25.48 66.765 58.978 24 68.23 60.597 25.443 67.45 59.741 25 68.083 60.182 26.337 66.378 58.383 (Mỗi thí nghiệm gia công 30 phút) MRR (mg/p) 1.693 1.13 0.93 0.587 0.66 8.857 6.283 5.44 2.953 6.85 11.733 4.288 3.953 14.442 12.81 9.313 9.443 34.793 31.037 16.66 17.147 41.31 25.957 25.697 26.65 Lần Khối lượng phôi (g) Trước Sau 69.813 69.343 66.155 65.888 68.037 67.678 67.154 66.897 65.037 64.792 66.814 64.02 65.803 63.776 67.371 65.656 69.914 68.742 69.801 67.677 67.524 63.7115 68.677 67.241 67.534 66.322 69.927 65.461 66.681 62.748 68.389 65.631 66.341 63.378 69.034 58.507 66.136 56.698 68.348 63.437 69.836 64.387 67.247 54.636 67.836 59.957 69.57 62.142 68.47 60.696 MRR (mg/p) TB 1.567 0.89 1.197 0.857 0.817 9.313 6.757 5.717 3.907 7.08 12.708 4.787 4.04 14.887 13.11 9.193 9.877 35.09 31.46 16.37 18.163 42.037 26.263 24.76 25.913 1.45 0.983 1.022 0.722 0.744 9.083 6.416 5.366 3.5 6.75 12.225 4.375 3.8 14.475 12.733 9.133 9.5 34.738 31.25 16.3 17.6 41.7 25.9 25.3 26.3 124 Bảng P6 Lượng mòn điện cực TWR Lần Lần Lần TT Điện cực (g) Điện cực (g) Điện cực (g) TWR TWR TWR TB (mg/p) Trước Trước Sau Sau (mg/p) Trước Sau (mg/p) 70.342 70.247 0.317 72.137 72.074 0.21 71.714 71.647 0.223 0.25 70.466 70.427 0.13 71.624 71.573 0.17 70.556 70.511 0.15 0.15 70.35 70.319 0.103 73.841 73.799 0.14 72.156 72.119 0.123 0.122 70.51 70.476 0.113 72.368 72.338 0.1 71.284 71.248 0.12 0.111 70.302 70.294 0.027 71.577 71.571 0.02 70.811 70.795 0.053 0.033 70.423 70.363 0.2 72.634 72.571 0.21 73.636 73.583 0.177 0.196 70.706 70.645 0.203 71.805 71.737 0.227 72.712 72.661 0.17 0.2 70.066 70.038 0.093 72.48 72.453 0.09 72.531 72.511 0.067 0.083 69.71 69.689 0.07 70.561 70.539 0.073 73.682 73.658 0.08 0.074 10 70.422 70.359 0.21 71.471 71.401 0.233 71.343 71.282 0.203 0.216 11 68.466 68.415 0.168 69.211 69.158 0.177 73.458 73.404 0.18 0.175 12 74.605 74.553 0.173 73.814 73.766 0.16 71.172 71.137 0.117 0.15 13 72.735 72.691 0.147 70.369 70.321 0.16 72.518 72.475 0.143 0.15 14 70.07 69.955 0.383 72.073 71.963 0.365 71.814 71.701 0.377 0.375 15 73.73 73.631 0.33 71.421 71.329 0.307 74.936 74.857 0.263 0.3 16 73.886 73.853 0.11 71.935 71.914 0.07 70.587 70.551 0.12 0.1 17 74.453 74.414 0.13 73.124 73.097 0.09 72.623 72.599 0.08 0.1 18 73.542 73.183 1.197 72.712 72.336 1.253 73.847 73.448 1.33 1.26 19 73.453 73.203 0.833 71.921 71.619 1.007 70.255 69.983 0.907 0.916 20 70.764 70.708 0.187 72.791 72.698 0.31 73.271 73.195 0.253 0.25 21 73.882 73.85 0.107 71.732 71.696 0.12 73.824 73.802 0.073 0.1 22 73.463 72.951 1.707 71.997 71.498 1.663 70.277 69.758 1.73 1.7 23 73.165 72.979 0.62 72.467 72.292 0.583 74.571 74.392 0.597 0.6 24 70.437 70.385 0.173 74.723 74.672 0.17 70.914 70.837 0.257 0.2 25 74.521 74.482 0.13 70.487 70.465 0.073 71.647 71.618 0.097 0.1 (Mỗi thí nghiệm gia cơng 30 phút) 125 Bảng P7 Nhám bề mặt Ra Exp I U Ton Tof Ra-1 (µm) Ra-2 (µm) Ra-3 (µm) Ra-TB (µm) 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 1 1 2 2 3 3 4 4 5 5 30 40 50 60 70 30 40 50 60 70 30 40 50 60 70 30 40 50 60 70 30 40 50 60 70 18 25 37 50 75 25 37 50 75 18 37 50 75 18 25 50 75 18 25 37 75 18 25 37 50 12 18 25 37 18 25 37 12 37 12 18 25 12 18 25 37 25 37 12 18 0.621 0.497 0.618 0.718 0.571 1.403 1.316 1.187 1.135 1.363 1.566 1.158 1.188 1.688 1.418 1.203 1.087 2.742 2.349 1.419 1.623 2.863 1.759 1.764 1.913 0.782 0.692 0.665 0.583 0.603 1.237 1.151 1.028 0.974 1.383 1.447 0.846 0.981 1.575 1.581 0.912 1.538 2.601 2.204 1.582 1.53 2.784 1.638 1.587 1.961 0.711 0.575 0.721 0.622 0.629 1.307 1.253 1.213 1.095 1.043 1.596 0.945 1.071 1.776 1.712 1.128 1.465 2.661 2.332 1.683 1.782 3.042 2.017 1.734 1.692 0.705 0.588 0.668 0.641 0.601 1.316 1.24 1.143 1.068 1.263 1.536 0.983 1.08 1.68 1.57 1.081 1.363 2.668 2.295 1.561 1.645 2.896 1.805 1.695 1.855 126 Bảng P8 Chiều dày lớp trắng WLT Exp I U Ton Tof WLT1 (µm) WLT2 (µm) WLT3 (µm) WLTTB (µm) 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 1 1 2 2 3 3 4 4 5 5 30 40 50 60 70 30 40 50 60 70 30 40 50 60 70 30 40 50 60 70 30 40 50 60 70 18 25 37 50 75 25 37 50 75 18 37 50 75 18 25 50 75 18 25 37 75 18 25 37 50 12 18 25 37 18 25 37 12 37 12 18 25 12 18 25 37 25 37 12 18 4.517 3.107 3.928 4.736 7.384 5.778 7.819 7.664 6.032 5.014 7.462 5.125 4.822 7.538 8.219 4.337 7.022 17.834 16.112 7.431 8.027 23.624 14.102 9.014 7.502 3.642 4.031 2.845 4.301 6.257 6.116 6.142 6.647 7.142 6.725 8.411 5.742 4.432 7.728 6.732 4.542 8.329 20.017 15.135 8.672 8.348 22.861 13.811 7.624 8.312 3.911 3.749 3.058 3.814 6.623 6.703 6.454 6.257 6.482 5.658 8.022 4.862 5.545 8.467 7.338 5.335 7.542 16.951 14.755 7.643 9.346 20.874 15.011 7.865 7.021 4.023 3.629 3.277 4.284 6.755 6.199 6.805 6.856 6.552 5.799 7.965 5.243 4.933 7.911 7.43 4.738 7.631 18.267 15.334 7.915 8.574 22.453 14.308 8.168 7.612 127 Bảng P9 Giá trị trung bình tỷ số S/N tiêu Exp MRR TWR Ra HV WLT S/N S/N S/N S/N (mg/ph) (mg/ph) (µm) (HV) (µm) 1.450 3.2274 0.2500 12.0412 0.705 3.0362 789.200 -57.9437 4.023 S/N -12.091 0.983 -0.1489 0.1500 16.4782 0.588 4.6124 749.820 -57.4991 3.629 -11.1957 1.022 0.722 -2.8293 0.1110 19.0935 0.641 3.8628 826.100 -58.3407 4.284 0.744 -2.5685 0.0330 29.6297 0.601 4.4225 818.720 -58.2627 6.755 -16.5925 9.083 19.1646 0.1960 14.1549 1.316 -2.3851 704.980 -56.9635 6.199 -15.8464 6.416 16.1453 0.2000 13.9794 1.240 -1.8684 727.040 -57.2312 6.805 -16.6566 5.366 14.593 0.0830 21.6184 1.143 -1.1609 802.600 3.500 10.8814 0.0740 22.6154 1.068 -0.5714 951.000 -59.5636 6.552 -16.3275 10 6.750 16.5861 0.2160 13.3109 1.263 -2.028 732.320 -57.294 11 12.225 21.745 0.1750 15.1392 1.536 -3.7278 704.240 -56.9544 7.965 -18.0237 12 4.375 12.8196 0.1500 16.4782 0.983 0.1489 937.060 -59.4353 5.243 -14.3916 13 3.800 11.5957 0.1500 16.4782 1.080 -0.6684 965.720 -59.697 14 14.475 23.2124 0.3750 15 12.733 22.0986 0.3000 10.4576 1.570 -3.9179 689.392 -56.7693 7.430 -17.4198 16 9.133 19.2123 0.1000 20.000 1.081 -0.6765 942.460 -59.4853 4.738 -13.5119 17 9.500 19.5545 0.1000 20.000 1.363 -2.6899 1021.520 -60.1849 7.631 -17.6516 18 34.739 30.8163 1.2600 -2.0074 2.668 -8.5237 878.860 -58.8784 18.267 -25.2333 19 31.250 20 16.300 24.2438 0.2500 12.0412 1.561 -3.868 786.540 -57.9144 7.915 21 17.600 24.9103 0.1000 20.0000 1.645 -4.3233 957.980 -59.6271 8.574 -18.6637 22 41.700 32.4027 1.7000 -4.6090 2.896 -9.2359 1188.480 -61.4998 22.453 -27.0255 23 25.900 24 25.300 28.0624 0.2000 13.9794 1.695 -4.5833 744.680 -57.4394 8.168 -18.2423 25 26.300 28.3991 0.1000 20.0000 1.855 -5.3668 769.740 -57.7269 7.612 0.189 0.1220 18.2728 0.668 3.5044 879.320 -58.8829 3.277 -10.3095 29.897 0.9160 28.266 0.6000 -58.09 8.5194 1.680 -4.5061 798.820 -58.049 -12.637 6.856 -16.7214 5.799 -15.2671 4.933 -13.8622 7.911 -17.9646 0.7621 2.295 -7.2156 715.640 -57.0939 15.334 -23.7131 -17.969 4.4370 1.805 -5.1295 678.660 -56.633 14.308 -23.1116 -17.630 128 Hình P9 Máy cắt dây trục CHMER CW 420HS Hình P10 Máy Xung CNC trục CHMER CM 323C Hình P11 Máy bắn lỗ SH CNC 129 Hình P12 Đồ thị số dư cho tỷ số S/N MRR (Tiếng Anh) Hình P13 Đồ thị số dư trung bình MRR (Tiếng Anh) ... độ cơng nghệ đến đặc tính lớp trắng bề mặt gia công; Trên sở định hướng nghiên cứu đề tài luận án là: Nghiên cứu xác định chế độ công nghệ tối ưu gia công xung tia lửa điện điện cực đồng với... vào chế độ công nghệ gia cơng EDM 2.1.6 Mịn điện cực Mịn điện cực kết từ phóng tia lửa điện cực phơi gia cơng Khi phóng tia lửa điện vật liệu lấy từ điện cực phôi gia cơng [73] Tia lửa dịng điện. ..BỘ CÔNG THƯƠNG TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHIỆP HÀ NỘI NGUYỄN VĂN ĐỨC NGHIÊN CỨU XÁC ĐỊNH CHẾ ĐỘ CÔNG NGHỆ TỐI ƯU KHI GIA CÔNG XUNG TIA LỬA ĐIỆN BẰNG ĐIỆN CỰC ĐỒNG CHUYÊN NGÀNH: KỸ

Ngày đăng: 13/06/2021, 10:43

Tài liệu cùng người dùng

Tài liệu liên quan