1. Trang chủ
  2. » LUYỆN THI QUỐC GIA PEN -C

Electrical Properties OfNb-Doped TiO2 Thin Films Deposited By Co-sputtering Process

10 2 0

Đang tải... (xem toàn văn)

THÔNG TIN TÀI LIỆU

Thông tin cơ bản

Định dạng
Số trang 10
Dung lượng 240,54 KB

Nội dung

The proposed structure of these co-sputtered films was shown as Figure 2 .After co-sputtering process, the amorphous as-deposited NTO thin films were annealed in vacuum atmosphere.. It i[r]

Ngày đăng: 24/01/2021, 15:20

TÀI LIỆU CÙNG NGƯỜI DÙNG

TÀI LIỆU LIÊN QUAN

w